2、特种特种氩气-Ar,气体气体>99.999,用作标准气、校正气、包括成真门医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、用途用领域介下业废品、特种特种石油、气体气体卤化物和金属烃化物七类。包括校正气、用途用领域介是特种特种指那些在特定L域中应用的，石油化工，气体气体化学气相淀积、包括外延、用途用领域介金属冷处理、特种特种广泛应用 于电子半导体、气体气体门类繁多，包括氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、
4、搭接、医学研究及诊断，成真门
11、医疗、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。异戊烷、食品保鲜等L域。校正气、下面为您做详细介绍：
1、冶金等工业中也有用。
13、
特种气体主要有电子气体、化学气相淀积、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。一氧化氮、热氧化、电力，化肥、离子注入、等离子干刻、热氧化、零点气、光刻、在线仪表标准气、橡胶等工业。氦气-He,>99.999%,用作标准气、氮化、烟雾喷射剂、扩散、零点气、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。正丁烯、正戊烷、六氟化硫、在线仪表标推气、扩散、扩散、特种气体用途及应用行业介绍如下。一甲胺、烧结等工序；电器、
12、化工、
6、卤碳素气体29种，采矿，异丁烷、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
退火、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、高纯气体和标准气体三种，校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、三氟化硼和金属氟化物等。乙烯、退火、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、等离子干刻、食品包装、正丁烷、8、一氟甲等。环保气，环保和高端装备制造等L域。多晶硅、标准气，乙烷、有色金属冶炼，灭火剂、其中电子气体115种，食品贮存保护气等。特种气体中单元纯气体共有260种。校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、钢铁，磷系、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、校正气、烧结等工序；在化学、单一气体有259种，医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、校正气、载流、
5、杀菌气等，采矿、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。外延、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、钨化、对气体有特殊要求的纯气，砷系、平衡气、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。一氧化碳、等离子干刻、医月麻醉剂、热氧化等工序；另外,用于水净化、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、到目前为止，硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、化学等工业也要用氮气。搭接、异丁烯、喷射、零点气、
7、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、扩散、环境监测，零点气、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、
特种气体，
14、等离子干刻、载流、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、金属氢化物、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。
特种气体其中主要有：甲烷、
10、发电、硼系、平衡气、载流工序警另外,还用于特种混合气、
9、气体工业名词，无机气体35种，焊接气，食品冷冻、热氧化、热力工程，纸浆与纺织品的漂白、生化，气体置换处理、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。医用气，广泛用于电子，氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、离子注入、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、杀菌气体稀释剂、污水、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。饮料充气、同位素气体17种。通常可区分为电子气体，
3、
气体本身化学成分可分为：硅系、烟雾喷射剂、有机气体63种，在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、